美国ILT2400+XSD340B辐照计365nm波长高能量曝光测量
格信达科技珠海(0756)分部网点授权提供的国际光学International Light ILT2400和XSD340B光刻胶测量系统用于326-401nm波段紫外线辐照度监测，校准于365nm光阻剂作用光谱，精确地知道光致抗蚀剂曝光的程度，可测量高达30W/cm2 高能量强度，用于PCB印刷电路板光及半导体业。
珠海美国ILT XSD340B 辐照计/照度计参数规格介绍
Photoresist光阻剂广泛用于PCB线路板行业，通过其使用蚀刻化学品来布置电路连接或印刷电路板迹线，也被用于半导体工业，它是用于形成单个半导体器件的微小电路的微图案的光刻生产中的关键步骤。Photoresist光刻胶工艺过程控制光线辐照强度和曝光时间至关重要，它可以避免在加工和生产过程中光刻胶的浪费性下曝光或曝光过度。为了保持这些设置，需要具有尽可能接近光阻剂作用光谱的测光表来精确地知道光致抗蚀剂曝光的程度。
美国International Light国际光学公司致力于提供各种光刻胶专用仪器来实现曝光辐射强度测量。ILT2400辐照计以手持价格提供研究级质量，采用可分离探头设计，具有8个量级的动态测量范围，测量速度可达100μs，内置可充电电池持续长达8小时，4.3寸触摸屏显示，可横向和纵向查看读数或图形曲线。XSD340B探头响应波段326-401 nm，校准于365nm波长，可测量3e-6 W/cm2至30W/cm2光源辐照强度。ILT测光表和探测器均带NIST可溯源ISO17025认证校准报告。
ILT XSD系列光刻胶辐照度探头
ILT2400+XSD140A：量程4e-8 to 0.7 W/cm2，响应波段320-475 nm，校准于405nm波长
ILT2400+XSD340A：量程8e-7 to 10 W/cm2，响应波段320-475 nm，校准于405nm波长
ILT2400+XSD140B：量程7e-8 to 1 W/cm2，光谱范围326-401 nm，中心波长365nm
ILT2400+XSD340B：量程3e-6 to 30W/cm2 高强度，测量光谱326-401 nm，校准于365nm
产品规格介绍文档http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_XSD340_SD140.pdf
ILT2400中文版简易操作说明书http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_Quick_Manual.pdf
分析仪软件介绍文档http://www.testeb.com/download/201805/ILT_DataLight-Trend-Manual.pdf
美国International Light Photoresist光阻剂曝光辐照度测光表探头选型
| 辐照计/探头组合 | 响应波长频谱 | 测量范围 | 类型及应用 |
| ILT5000, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-9 ~ 2 W/cm² |
台式，Photoresist光刻胶/光阻材料， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻胶/光阻剂，同上 |
| ILT1000/A/W | 320-475 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻剂， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT1700, SED033/A/W | 320-475 nm | 7e-9 ~ 4 W/cm² | 台式，Photoresist光刻/光阻剂，同上 |
| ILT2400, XSD140A | 320-475 nm | 4e-8 ~ 0.7 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻剂， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340A | 320-475 nm | 8e-7 ~ 10 W/cm² | 同上，大功率高强度辐照探头 |
| ILT5000, SED033/B/W | 326-401 nm | 3e-10 ~ 0.2 W/cm² |
台式，Photoresist光刻/光阻剂， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, SED033/B/W | 326-401 nm | 2e-8 ~ 0.2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT1700, SED033/B/W | 326-401 nm | 5e-9 ~ 0.5 W/cm² | 台式，同上 |
| ILT1000/B/W | 326-401 nm | 2e-7 ~ 2 W/cm² | 手持式，同上 |
| ILT2400, XSD140B | 326-401 nm | 7e-8 ~ 1 W/cm² |
手持式，Photoresist光刻/光阻剂， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
| ILT2400, XSD340B | 326-401 nm | 2e-6 ~ 30 W/cm² | 手持式，Photoresist光刻胶/光阻剂，高强度测量 |
| ILT2400, SSD001 | 260-400 nm | 6e-6 ~ 0.9 W/cm² |
手持式，超薄传感器， PCB板曝光系统，UVA光源，UV-Vis光源 |
另有UV固化测量系统ILT800传送带式紫外线固化设备曝光量测量，范围5e-3 ~ 40 W/cm2；LT2400+XSD340AT7 320-475 nm，校准于405nm中心波长，可测辐照强度范围高达60 W/cm²。ILT紫外杀菌测光系统ILT2400+SED254/QT，手持式，低可见度环境，高功率紫外线强度应用；ILT2400+SED185/NS185校准于185nm，臭氧/杀菌、光解废气、水处理行业。
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