VIRTUAL PV4000A真空晶圆吸笔6~12寸硅晶片转移搬运
格信达科技合肥(0551)分部网点授权提供的美国Virtual PORTA-VAC®II PV4000A晶圆吸笔使用可更换的9V电池真空泵产生吸力,前端可配备468寸吸笔头,可选Peek材质或耐高温铁氟龙涂层,用于处理晶圆、圆盘、玻璃片等具有硬实平面的物体,可轻松拾取超过500g重量。
合肥美国Virtual PV4000A 真空吸笔参数规格介绍
威士Virtual PV4000A电池式真空吸笔是处理硅晶片、平板玻璃或其它精密平板器件的理想工具,采用9V电池启动气泵。电池低指示灯闪烁红色时,电池需要更换或充电可,使用9V镍氢电池或者锂电池,有外置充电器供选配。PORTA-VAC® II分别提供Peek材质吸笔头和耐高温铁氟龙涂层吸片。
美国VIRTUAL PORTA-VAC系列电池式晶圆吸笔规格型号
PORTA-VAC® II真空吸笔,带Peek®晶圆吸笔头
PV4000A-MW4:VMWT-A塑料吸笔头, handles up to 4” (100mm) wafers
PV4000A-MW6:VMWT-B PEEK吸笔头, handles up to 6” (150mm) wafers
PV4000A-MW8:VMWT-C, handles up to 8” (200mm) wafers
PORTA-VAC® II真空吸笔,250℃耐高温特氟龙晶圆吸笔头
PV4000A-TW4:VWT-100075-PF高温吸笔头, handles up to 4” (100mm) wafers
PV4000A-TW6:VWT-170110-PF高温吸笔头, handles up to 6” (150mm) wafers
PV4000A-TW8:VWT-250125-PF铁氟龙吸笔头, handles up to 8” (200mm) wafers
PV4000A-X:仅PORTA-VAC II吸笔杆,无吸笔头
——Series 3 PORTA-VAC® Kit系列带操作指示灯——
PV4300-VWT5R晶圆吸笔:Series 3 PORTA-VAC with wafer tip VWT-5R, 吸取12” (300mm) wafers
PV4300-X:仅PORTA-VAC 3吸笔无吸盘
VWT-5R-AR:圆形12寸晶圆吸盘,空压式晶圆吸笔,中心有孔减少接触面,外经127mm,处理12" 300mm晶圆
PV4300-MW4:Series 3 PORTA-VAC及 VMWT-A吸笔头,handles up to 4” (100mm) wafers
PV4300-MW6:带VMWT-B吸笔头,拾取6” (150mm)晶圆
PV4300-MW8:含VMWT-C晶圆吸头,吸取8寸硅晶圆
PV4300-TW4:Series 3 PORTA-VAC及WT-100075-PF耐高温铁氟龙吸笔头, 处理4” (100mm)晶圆
PV4300-TW6:含铁氟龙涂层吸笔VWT-170110-PF, handles up to 6” (150mm) wafers
PV4300-TW8:含特氟龙涂层吸笔头VWT-250125-PF, handles up to 8” (200mm) wafers
美国Vitual便携式晶圆吸笔型号
VPW6300-VWT5R-220可充电晶圆吸笔,12寸晶圆专用,有指示灯可知道电量,预防产品掉落
VPW6000AR-MW8可充电式晶圆吸笔,8寸晶圆拾取,可配4、6、8吋吸笔头使用,适合2寸、4寸、6寸、8寸硅片等
PV4000A电池式晶圆吸笔,可更换9V直流电池,可选外置充电装置,可以配2、4、6、8寸吸笔头使用,符合防静电规格
V3200-CLN-MW6电池式晶圆吸笔,内置真空发生器不用外接气源,9V电池,配4、6、8寸吸笔头使用,洁净室标准
合肥0551,皖江城市带核心城市,拥有三所国家实验室和四座重大科学装置,是仅次于北京的国家重大科学工程布局重点城市,合肥经济圈从以合肥为区域对外开放的龙头城市,发展成为我国泛长三角的重点城镇群。格信达科技为本地区客户提供气体检测仪、艾默生475现场通讯器、lcr数字电桥、德国weller焊台及精密镊子剪钳等测控仪表设备。